局所円偏光による磁気記録(11509)

技術分野
電子
所属
理工学部 電子工学科
氏名
中川 活二

目的

磁気ディスクメモリの記録速度限界と記録密度限界を超える技術を提供する。フェムト秒レーザ円偏光を磁性体に照射することで、外部磁場なしで高速に磁区を記録できる。このとき、本研究のナノメートルサイズの金属アパチャーと記録粒子との相互作用を利用して局所的に円偏光を発生することができ、現行技術を超える高速度と高密度の記録を実現する手法を提供する。

技術概要

超短光パルス円偏光を磁性体に照射することで、磁化反転を励起することができ、高速磁気記録の手法として注目されている。しかし、光を使うために、波長のオーダーまでしか光を集光できない。このため、この円偏光をナノメートルのオーダーで、局所的に記録ディスク上に生成することで、高密度の記録も同時に実現できる。本研究では、局所表面プラズモンを利用した微小開口を有する金属膜を記録材料の表面に配置することで、局所的に円偏光を生成でき、上記の高速記録に加えて、微小領域への記録も同時に実現できる手法を提供する。

適用製品

磁気ディスク(HDD)、メモリディスク、高速光スイッチ

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